首页 / 百科 / 内容详情 VPE制备n-n+-Si用硅烷为源，硅烷是在（）完成的分解。可从下面选择：气相硅片表面n-n+Si界面 2022-05-02 5次阅读 硅烷 气相 硅片 VPE制备n-/n -Si用硅烷为源，硅烷是在（）完成的分解。可从下面选择：气相硅片表面n-/n Si界面 正确答案：硅片表面 通常掩膜氧化采用的工艺方法为： 外延工艺就是在晶体衬底上，用物理的或化学的方法生长（）薄膜。 猜你喜欢 SiH4，中文名硅烷，又叫四氢化硅，是一种无色、与空气反应并会引起窒息的化学气体。是一种不易燃的，有毒的危害性气体（） 硅烷法的成本低，但是安全性差。 硅烷类偶联剂的分子式可以写成Y(CH2)nSiX3，其中能水解的基团是。