首页 / 百科 / 内容详情 热氧化过程中杂质在SiO2Si界面的浓度是突变的,这是由杂质()引起的。(两个字) 2022-05-02 9次阅读 杂质 突变 浓度 热氧化过程中杂质在SiO2/Si界面的浓度是突变的,这是由杂质()引起的。(两个字) 正确答案:分凝 扩散掺杂,扩散区要比掩膜窗口尺寸,这是()效应引起的,它直接影响超大规模集成电路的集成度。 热氧化速率快慢排序:氧化最快、氧化次之、氧化最慢。(从“干氧、湿氧、水汽”中选择填空,中间用“、”隔开) 猜你喜欢 真丝生坯上含有以下哪些杂质()? 化学纤维长度整齐无杂质,天然长度整齐度较差含有杂质。() 原水中的杂质按尺寸大小可分为()。 阿司匹林杂质中,能引起过敏反应的是()。 当杂质原子取代基质原子占据晶格的格点位置时,形成()杂质。