首页 / 百科 / 内容详情 关于PECVD-Si3N4薄膜的下列说法哪个对? 2022-05-02 6次阅读 薄膜 下列 PECVDSi 关于PECVD-Si3N4薄膜的下列说法哪个对? A.含H;B.抗腐蚀性好;C.台阶覆盖性较好;D.是中温工艺;E.常作为芯片的保护膜;F.常作为腐蚀掩膜。正确答案:含H;;台阶覆盖性较好;;常作为芯片的保护膜; poly-Si薄膜通常是采用什么方法制备的? LPCVD-SiO2,将工艺控制在较高温度,有:kshg,此时淀积速率的特点为: 猜你喜欢 不属于薄膜的是() 柔性版印刷可以在薄膜上印刷。 目前光伏企业太阳能电池材料是薄膜材料()。 在迈克耳孙干涉仪的一支光路中,放入一片折射率为n的透明介质薄膜后,测出两束光的光程差的改变量为一个波长l,则薄膜的厚度是() 一束波长为l的单色光由空气垂直入射到折射率为n的透明薄膜上,透明薄膜放在空气中,要使反射光得到干涉加强,则薄膜最小的厚度为()